لایه نشانی و تعیین خواص نوری نیترید سیلیسیم در محیط های آرگن و نیتروژن

نویسندگان

1 Electrical Engineering, K. N. Toosi University of Technology

2 Mechanical Engineering, K. N. Toosi University of Technology

چکیده

�لایه های نازک نیترید سیلیکون برروی زیرلایه بس کریستال سیلیکون و شیشه نازک بااستفاده از روش کندوپاش RF لایه نشانی شده اند. لایه نشانی یک بار در محیط گاز آرگن و بار دیگر در محیط گاز نیتروژن انجام شده� است. با تغییر توان لایه نشانی نسبت نیتروژن و سیلیکون موجود در لایه تغییرمی کند و لایه هایی با خواص نوری متفاوت به دست می آید. تأثیرات ناشی از تغییرات توان RF برروی خواص نوری و ترکیبات موجود در لایه ها بررسی شده است نسبت سیلیکون به نیتروژن در ترکیب پوشش های ضد بازتاب نیترید سیلیکون بهینه و به کمک آنالیز RBS بررسی شده است. از آنالیز UV/VIS/IR برای بررسی خواص نوری این لایه ها استفاده شده است. لایه های نیترید سیلیکونی که در محیط آرگن با ضخامت �2000 و با توان بین 100 تا 150 وات لایه نشانی شده اند، درصد عبور نور بسیار بالای 92% (درحدود شفافیت شیشه های نازک) در طیف وسیع 300 تا nm1200 دارند. لایه های ضد بازتاب نیترید سیلیکون مذکور بازتاب سطح سلول های بس کریستال سیلیکون را از 12% به کمتر از 2% کاهش می دهند.

کلیدواژه‌ها


عنوان مقاله [English]

Deposition and Determination of the Properties of Silicon Nitride Films in Argon and Nitrogen Atmospheres

چکیده [English]

Silicon nitride films were deposited on glass and polycrystalline silicon by RF sputtering using hot pressed ceramic Si3N4 target. Depositions were done in Argon and Nitrogen atmospheres. In order to optimize an antireflective coating for solar cells, sputtered silicon nitride thin films were grown with various RF power of deposition in two different atmospheres. The compositional, morphological and optical properties of film were investigated by RBS, SEM and UV/VIS/IR spectrophotometer analyses. Silicon nitride films (2000nm thickness) deposited with the RF power between 100-150W have exhibited high transparency≈92% for the spectral range between 300-1200nm. The silicon nitride antireflection coating deposited on the textured surface of multicrystalline silicon solar cells decreased the overall reflection of the cells from 12% to less than 2%.

کلیدواژه‌ها [English]

  • Silicon Nitride
  • RF Sputtering
  • Antireflective Coating
  • solar cells